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RALF B. WEHRSPOHN, HAOJIE ZHANG, DIRK J. HAGEN, XIAOPENG LI, ANDREAS GRAFF, FRANK HEYROTH, … STUART PARKIN
Atomic Layer Deposition of Cobalt Phosphide for Efficient Water Splitting
Angewandte Chemie Int Ed 59 (2021),

Cobalt phosphide is prepared by atomic layer deposition for the first time. The optimized recipe employs an extra H2 plasma step to remove excess phosphorus. The as-deposited Co-P films demonstrate significantly higher activities towards electrochemical and photoelectrochemical hydrogen evolution reaction than that prepared by a traditional method.

DOI:10.1002/anie.202002280


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